Tο χαμηλό αυτό ποσοστό φυτρώματος των σπόρων της κάπαρης, οφείλεται στα ιδιαίτερα χαρακτηριστικά των σπόρων της, όπως είναι: το σκληρό περισπέρμιο, το έμβρυο που περιβάλλεται από αποθησαυριστικούς ιστούς αλλά και η ιξώδης ουσία που αναπτύσσεται στην επιφάνεια τους όταν έρθουν σε επαφή με την υγρασία του εδάφους.
Οι αρνητικές αυτές επιπτώσεις επάνω στο ποσοστό φυτρώματος των σπόρων, μειώνονται με την επεξεργασία της επιφάνειας των σπόρων με διάφορα μέσα.
Από αυτά, πιο συχνά χρησιμοποιείται το πυκνό θειικό οξύ. Οι σπόροι εμβαπτίζονται σε διάλυμα αυτού του οξέος για μία διάρκεια 15-30 λεπτών. Σύμφωνα με ερευνητικές εργασίες, με αυτή την μέθοδο το ποσοστό φυτρώματος φθάνει το 50%, το οποίο μπορεί να ανέλθει μέχρι το 80% εφόσον μετά την επεξεργασία με το θειικό οξύ, γίνει εμβάπτιση των σπόρων σε διάλυμα γιββεριλλινικού οξέος (50-100)ppm για μία διάρκεια (1) ώρας.
Σε κάθε περίπτωση οι σπόροι πρέπει να προέρχονται από καρπούς με τέλεια ωριμότητα, ενώ πρέπει να έχουν συντηρηθεί σε περιβάλλον δροσερό και ξηρό.